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三靶磁控濺射的技術原理
日期：2025-05-05 03:25
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摘要：
三靶磁控濺射是一種常用的表面涂裝技術，主要用于制造工業(yè)中的各種設備和部件。該技術具有高效、節(jié)能、環(huán)保的特點，因而受到青睞。本文將詳細介紹三靶磁控濺射的原理、應用和優(yōu)點。
三靶磁控濺射技術是一種高能低溫的表面涂裝技術，它能在金屬表面形成致密、均勻的薄膜。該技術的原理是加熱金屬靶材，使其表面產(chǎn)生電子濺射，同時在真空條件下，在靶材附近沉積工件表面。
磁控電子槍是三靶磁控濺射技術的核心，它能發(fā)射高能電子束，利用磁場將其聚焦在靶材表面。電子束會在靶材表面產(chǎn)生電子濺射，從而擊出靶材表面的原子或分子。這些原子或分子以高速飛出，并沉積在工件表面形成薄膜。