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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:實(shí)驗(yàn)型,研究型MPCVD培育鉆石

  • 產(chǎn)品型號(hào):TN-MPCVD
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶金剛石,化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶金剛石自支撐厚膜,化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶金剛石薄膜,化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜
詳情介紹:

適合的應(yīng)用:

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶金剛石

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶金剛石自支撐厚膜

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶金剛石薄膜

化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜

產(chǎn)品特點(diǎn):

 

本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設(shè)備,功率密度高;

水冷式基片臺(tái)和水冷式金屬反映腔,保證系統(tǒng)能長時(shí)間穩(wěn)定工作;

基片溫度以微波等離子體自加熱方式達(dá)到;

真空測量儀表采用全量程真空計(jì),可**測量本底真空和工作氣體壓強(qiáng);

真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機(jī)械真空泵(極限真空為1Pa),系統(tǒng)可自動(dòng)控制沉積氣壓;

配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng),確保裝置高功率下可長時(shí)間**穩(wěn)定運(yùn)行;

系統(tǒng)帶15寸觸摸屏,PLC自動(dòng)控制,可設(shè)置溫度或氣壓恒定,可保存復(fù)用多達(dá)20套工藝文件;

全自動(dòng)工藝控制模塊,可以穩(wěn)定可靠地制備高品質(zhì)金剛石薄膜和晶體

技術(shù)指標(biāo)與特性

微波系統(tǒng)(法國Sairem 微波源)

微波頻率

2450±25MHz

輸出功率

0.6kw~6kw 連續(xù)可調(diào)

微波調(diào)諧

三銷釘調(diào)配器,模式轉(zhuǎn)換天線

微波反射保護(hù)

環(huán)形器,水負(fù)載

微波工作模式

TM013

微波泄漏

2 mw/cm2

真空系統(tǒng)

工作氣壓范圍

10~250Torr

自動(dòng)穩(wěn)壓范圍

40~250Torr

真空泵

4.4L/s 旋片式真空泵

系統(tǒng)漏率

<1.0x10-9 Pa?m3 / (通過氦質(zhì)譜檢漏儀檢測)

腔體保壓能力

24 小時(shí)壓升小于0.2

本底極限真空

0.1Pa7.5 x10-4 Torr)

真空測量

品牌薄膜規(guī)

真空反應(yīng)腔

反應(yīng)腔材料及結(jié)構(gòu)

雙層水冷不銹鋼反應(yīng)腔

真空密封

金屬密封+氟膠圈密封(取樣門)

反應(yīng)腔內(nèi)徑

直徑140mm

樣品臺(tái)窗口

105x50mm 長方形端口,帶O 形氟橡膠圈密封的前門

觀察窗口

兩個(gè)端口,CF35 大口徑,180°分布

測溫窗口

兩個(gè)窗口水平角度25~30°,180°分布;窗口方便從反應(yīng)腔上部的

斜角向下檢測樣品臺(tái)的溫度

樣品臺(tái)

電動(dòng)升降式水冷基片臺(tái)

直徑100mm,高度可調(diào)范圍070mm

鉬基片臺(tái)直徑50mm,在5000w, 180Torr 工作狀態(tài),等離子體火球可覆蓋

整個(gè)基片臺(tái)

基片臺(tái)溫度 2501400℃(取決于工藝參數(shù))

氣路

選用日本進(jìn)口流量計(jì)及流量控制閥

系統(tǒng)自帶四路MFC

四路MFC *大流速:H2: 1000sccm,CH4100sccmO220sccm,N22sccm

測溫系統(tǒng)

德國Raytek 紅外測溫系統(tǒng),測溫范圍:300~1300 攝氏度

系統(tǒng)軟件

配置PLC 控制的15“觸摸顯示屏,用戶操作界面友好,所有操作均可在觸摸

屏上完成

系統(tǒng)支持工程師和操作員兩個(gè)用戶級(jí)別,提供用戶權(quán)限管理功能

系統(tǒng)自帶缺水,缺氣,電源缺相,火球跳變,過溫過載,打火等自動(dòng)保護(hù)

可設(shè)置多達(dá)10 套工藝配方,每套配方有40 行數(shù)據(jù),生產(chǎn)流程通過工藝配方自

動(dòng)控制,工藝數(shù)據(jù)可通過U 盤備份導(dǎo)出

系統(tǒng)自帶全自動(dòng)抽氣,點(diǎn)火,升溫,降溫等預(yù)設(shè)流程,用戶操作簡便

全自動(dòng)溫度控制,氣壓控制,極大減輕系統(tǒng)操作員的工作量

系統(tǒng)安裝要求

由客戶提供以下安裝條件:

1. 氣體連接

2. 電源

a) 供電電壓:AC 380V(±10),頻率50Hz,三相四線,室內(nèi)具有獨(dú)立的地線,

接地電阻效益4Ω,*大功率20kw

b) 建議每臺(tái)設(shè)備在1 米之外的墻上預(yù)留單獨(dú)的空氣開關(guān),空氣開關(guān)規(guī)格:4P32A

帶漏電保護(hù)。

c) 在進(jìn)行任何連接之前,應(yīng)關(guān)閉系統(tǒng)內(nèi)配電子系統(tǒng)。

3. 冷卻水

客戶需自備工業(yè)冷水機(jī):

a) 制冷能力:10kw

b) 流量:>30L/min

c) 建議進(jìn)水溫度:20℃,*高進(jìn)水溫度<25

d) 入口水壓:≥5.0 kg/cm2 (或揚(yáng)程>45 米)

e) 系統(tǒng)進(jìn)水出水連接:φ19mm(寶塔接頭)

f) 為了避免因腐蝕而出現(xiàn)問題,建議使用純凈水

4. 系統(tǒng)控制用壓縮空氣需求

a) 工作氣路:用戶需自備CH4, H2, N2, O2 四路氣體,氣體壓力0.2MPa,氣體純

度由用戶根據(jù)工藝需求自行確定

b) 氣體接口:1/4VCR 接口

深圳優(yōu)普萊等離子體技術(shù)有限公司 www.uniplasma.com

UP-206 全自動(dòng)微波等離子體系統(tǒng)產(chǎn)品規(guī)格書

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a) 壓縮干空氣(CDA):系統(tǒng)需提供CDA 氣路,氣體壓力≥0.4MPa。

b) 接口:φ8 快插接口(氣動(dòng)快插)

5. 設(shè)備排氣

a) 客戶需自備排氣通道,設(shè)備的排氣口通過KF25 接口連接到排氣通道。

驗(yàn)收

1. 真空泄漏:真空腔漏率<0.1Torr/12 小時(shí)

2. 微波泄漏:測量低于2mW/cm2 (微波輸出5kw 時(shí))

3. 水管漏水:確認(rèn)水管沒有漏水

4. 系統(tǒng)測試:系統(tǒng)可正常啟動(dòng)和運(yùn)行,等離子體火球均勻穩(wěn)定

保修

3. 客戶需自行保證氣體、電力和水等公用設(shè)施的工程施工進(jìn)度不影響設(shè)備的安裝調(diào)試,

由此引起的延期不予延長保修期。

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